ZT-20-200-30H密閉制冷加熱循環(huán)裝置用途特點

 能提供熱源或冷源的循環(huán)裝置。工作范圍廣，可用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源。

 制冷加熱循環(huán)裝置，又稱高低溫一體機、制冷加熱一體機，為需冷卻或加熱設(shè)備如反應(yīng)釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀等提供高低溫循環(huán)液，通過外循環(huán)的方式為反應(yīng)器皿提供熱源或冷源，達到反應(yīng)所需條件，控溫精度高。廣泛應(yīng)用于有機合成、生物、制藥、食品等各大科研及高校實驗室。有防爆型可供選擇，具有安全、、環(huán)保、方便等特點。

ZT-20-200-30H密閉制冷加熱循環(huán)裝置參數(shù)
●溫度控制范圍寬：-80℃~200℃。
●預冷系統(tǒng)、制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)可聯(lián)合使用。
●快速加熱或冷卻。
●降溫速率大，可強制快速降溫。
●全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化；低溫下不易受環(huán)境條件影響，可延長導熱流體的使用壽命。
●制冷換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。
●液位顯示功能，實時監(jiān)視液位，避免缺少載熱流體。
●超溫保護、漏電保護、過電流保護等多種保護功能，充分保證使用者及設(shè)備安全。
●根據(jù)用戶需求，可提供風冷、水冷兩種預冷方式機型。

應(yīng)用
●化工、制藥和生物領(lǐng)域中雙層及三層反應(yīng)釜的溫度控制。
●材料測試中的溫度控制。
●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
●工藝過程中的溫度變化模擬控制。
●恒溫控制系統(tǒng)。
●半導體設(shè)備的溫度控制。
●熱測試平臺的溫度控制。
●真空室的溫度控制。