低溫恒溫循環(huán)器HX系列用途特點

可作為恒溫反應的容器單獨使用，也可與電泳儀、電子探針等配套使用，提供溫度均勻的冷熱源。應用于石

油、化工、冶金、醫(yī)藥、生化等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質(zhì)檢部門。常應用于對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

低溫恒溫循環(huán)器HX系列特點

●溫度控制采用PID方式，控制精度高。

●溫度顯示采用數(shù)顯方式。

●美、法的品牌全封閉風冷式壓縮機組。

●循環(huán)泵采用雙葉輪運行，并有自吸功能，流量及揚程加大，目前是國內(nèi)高性能循環(huán)器。

●循環(huán)液在內(nèi)循環(huán)中形成分散均勻流場，熱交換平穩(wěn)。

●水槽材質(zhì)采用304不銹鋼。

恒溫循環(huán)器參數(shù)